以洁净致精微——2026上海半导体展与中微公司交流侧记
来源: | 作者:斯普林 | 发布时间: 28天前 | 602 次浏览 | 🔊 点击朗读正文 ❚❚ | 分享到:

一、奔赴盛会

2026年3月19日,上海新国际博览中心。

清晨七点半,展馆外已经排起了长龙。我们斯普林团队的几个人拖着行李箱,在人流中缓慢移动。箱子里装着最新版的油雾净化器样品、技术手册和折叠展架。

“这人也太多了吧。”同事小周踮起脚往前张望。

“半导体展向来如此,今年比去年还夸张。”我笑着说。

排了将近二十分钟,我们终于进入展馆。放眼望去,W1到W5馆全部爆满,过道里人头攒动,想快速穿行几乎不可能。每个展台前都围着少则三五人、多则几十人的观众,有人拿着笔记本认真记录,有人举着手机拍产品细节,还有操着不同语言的外国客商在翻译的陪同下穿梭洽谈。

我们的展位在W3馆靠中间的位置。简单布置之后,很快就迎来了第一批访客。一天下来,嗓子基本哑了,但心里是兴奋的——市场对工业环境净化的关注度,比我们预期的还要高。

二、斯普林是谁

趁着间隙,简单介绍一下我们。

斯普林(佛山)环境净化科技有限公司,在佛山南海区扎根了八年。公司品牌其实从2009年就开始运作了,但真正规模化发展,是2015年突破了纳米自清洁核心技术之后。2017年,我们在佛山建起了自己的工厂,从此从技术研发走向了产业化。

我们做什么?简单说,就是帮工厂解决油烟油雾和粉尘的问题。

我们的主打产品叫S-mist系列油雾净化器。这名字听起来普通,但里面的玻纤自清洁技术是我们花了五年时间才攻克的。它能捕捉3微米以上的颗粒物,净化效率达到99.97%。更重要的是,滤芯寿命长,维护成本低,这在工业场景里是实打实的价值。

半导体行业是我们的重点方向之一。刻蚀、薄膜沉积、光刻胶显影这些工序,都会产生油雾和废气。在纳米级工艺面前,一颗肉眼看不见的微粒就可能毁掉一片晶圆。我们做的,就是把这些看不见的“杀手”挡在生产线之外。

这些年,我们服务了比亚迪、本田、京瓷等一百多家企业,在实战中积累了大量的现场经验。说实话,工业净化这个行当,光有实验室数据不够,还得经得起工厂车间里粉尘油雾的“真刀真枪”考验。

三、走进中微

第二天下午,我们终于抽出时间,专门去拜访中微公司的展台。

中微公司,股票代码688012,国内半导体设备的龙头企业。说它是中国半导体产业链的“脊梁”之一,一点也不为过。它的刻蚀机已经进入全球主流晶圆厂的产线,是少数能在国际市场上与国际巨头正面竞争的中国设备商。

中微的展台在W4馆最显眼的位置。一块巨大的弧形屏幕上,循环播放着刻蚀设备的工作原理动画。展台中央摆放着最新一代刻蚀机的模型,虽然只是模型,但那种精密感和工业美感,还是让人忍不住多看几眼。

展台前围着的人就没断过。我们等了一会儿,才终于和中微的一位技术负责人——张总——接上了头。

张总五十岁出头,戴着一副金丝眼镜,说话不紧不慢,但每句话都切中要害。他听说我们是做环境净化的,立刻来了兴趣。

“你们具体做什么产品?”他问。

“油雾净化,主要是针对半导体生产过程中产生的油烟和微尘。”我递上技术手册,翻到半导体应用那一页,“比如刻蚀工序,你们应该很了解,反应腔体外的环境控制其实也很关键。”

张总接过手册,认真看了几眼,然后抬头说:“走,我们找个地方坐下来聊。”

四、一次坦诚的对话

我们在展台后面找了两个折叠椅坐下来。周围人来人往,但我们聊得很投入。

张总先介绍了一下中微刻蚀设备的现状。他说,目前中微的刻蚀机在5nm、3nm制程上已经实现了批量应用,客户对设备的稳定性要求越来越高。但很多人忽略了一个问题——设备本身是在洁净车间里组装的,组装环境的好坏,直接影响设备出厂后的可靠性。

“我们有严格的无尘组装要求,”张总说,“但在实际生产过程中,还是会遇到一些棘手的情况。比如,有些精密部件在运输和装配过程中,表面会吸附微量颗粒物。这些颗粒物一旦进入反应腔体,就可能造成污染。”

我点了点头。这个问题我们之前在服务一家刻蚀设备零部件厂商时也遇到过。

“我们当时的解决方案是,”我翻开手机里的案例记录,“在他们组装线的关键工位旁边,加装了一套局部微尘捕集系统。不是简单的吸尘,而是通过气流模拟,精准控制工位周围的气流方向,让颗粒物还没有落到工件表面就被带走了。配合我们S-mist设备的亚微米级过滤能力,效果很明显。”

张总眼睛亮了一下:“这个思路有意思。我们之前更多是控制车间整体洁净度,但局部工位的精细化控制确实是个短板。”

“对,”我说,“整体洁净度和局部控制是两码事。整体环境可以做到百级甚至十级,但某个操作动作或者物料传递,就可能瞬间产生高浓度的局部污染。我们的思路是,在污染源头做文章,而不是单纯靠大环境的稀释。”

我们越聊越深入。张总又提了几个他们在客户现场遇到的痛点,比如刻蚀设备在客户工厂安装调试期间,如何确保现场环境达标;再比如设备维护时打开腔体那一瞬间,如何防止外界污染物侵入。

我们的技术团队现场做了一些推演,结合斯普林在洁净室设计、气流组织方面的经验,提出了一些初步的想法。张总听完,连连点头,说回去之后可以让技术部门和我们进一步对接。

五、不谋而合的理念

聊到最后,张总说了句话,让我印象很深。

“我们做刻蚀机的,一直在追求更小的线宽、更高的均匀性。但说到底,设备的精度最终要靠环境的精度来保障。没有好的环境,再好的设备也发挥不出来。”

这话说到我心坎里了。

斯普林这些年做的事情,说起来很简单——就是把环境控制好。但这个“简单”背后,是对无数细节的死磕:滤材的选择、气流组织的优化、设备能耗的平衡、滤芯寿命的提升。每一项都是硬功夫。

中微在刻蚀机领域的突破,靠的也是这种对极致的不懈追求。我们两家公司,一个做设备,一个做环境,看起来不搭界,但骨子里的理念是相通的——都相信“精微之处见真章”。

六、展会落幕,合作开启

三天的展会很快结束了。撤展那天,我们和中微的团队又碰了一次面,互换了详细的技术资料和联系方式。双方约定,展会后尽快组织一次正式的技术对接会,把交流中提到的几个方向做进一步的验证。

回佛山的飞机上,我靠着舷窗想了很多。半导体这个行业,这几年被推到了风口浪尖上。国产化的呼声很高,但真正要把产业链做起来,靠的不是口号,是无数像中微这样埋头做设备的企业,以及无数像斯普林这样在细分领域默默深耕的配套商。

我们和中微的合作,现在只是一个开始。但我相信,这次上海春天的相遇,一定会结出果实。

毕竟,在这个行业里,真正的伙伴,都是奔着同一个方向去的——让中国的半导体产业,站得更稳,走得更远。