光刻是半导体制造中极为关键的环节，它通过光线将电路图案转移到硅片上。在光刻设备运行时，部分精密部件如光刻机的光学镜头驱动系统、精密导轨等，需要润滑油进行润滑以保证其高精度的运动。然而，在设备高速运转过程中，润滑油会因摩擦生热等原因产生油雾。这些油雾若不及时处理，危害极大。

在半导体制造的刻蚀工艺中，为了冷却和润滑刻蚀设备的刀具等部件，会使用到切削液、润滑油等液体，这些液体在高速切削过程中容易产生油雾。同时，研磨工艺对硅片表面进行打磨处理时，研磨设备的旋转部件同样需要润滑，也会产生油雾。

刻蚀和研磨过程中产生的油雾如果扩散到车间环境中，不仅会污染周围的设备和工作台，影响设备的正常运行，还会对操作人员的健康造成威胁。

在半导体封装环节，会使用到各种机械设备，如引线键合机、塑封机等。这些设备在运行过程中，其内部的传动部件、轴承等需要润滑油来保证顺畅运转，从而不可避免地会产生油雾。在测试环节，大量的测试设备也存在类似的油雾产生问题。

封装测试车间内的油雾若不加以处理，会影响封装设备的精度和可靠性。例如，油雾附着在引线键合机的键合头上，可能会导致键合质量下降，出现引线虚焊、脱落等问题，影响芯片的电气连接性能。

在半导体生产设备的日常维护保养过程中，对设备的润滑、清洁等操作也可能会产生油雾。比如，更换设备的润滑油时，油品的倾倒、涂抹等操作可能会使部分润滑油挥发形成油雾；使用含有有机溶剂的清洁剂对设备进行清洁时，也可能会产生混合性的雾气。

这些在设备维护保养过程中产生的油雾，如果不及时净化处理，会在车间内扩散，污染其他设备和工作区域。而且，维护保养人员在操作过程中如果吸入这些油雾，也会对身体健康造成不良影响。